下記の要領で学内講演会が開催されます。
| 演 題 | 「半導体プロセスの研究動向と新規なレジスト除去技術の開発」 |
| 講 師 | 堀邊 英夫 |
| 所属・資格 | 大阪公立大学・物質化学生命系専攻・教授 |
| 日 時 | 2025年9月8日(月) 16:00-17:40 |
| 場 所 | 早稲田大学 西早稲田キャンパス55S-510室 |
| 参加方法 | 入場無料、直接会場へお越しください。 |
| 対 象 | 学部生・大学院生、教職員、学外者、一般の方 |
| 主 催 | 早稲田大学先進理工学部 応用化学科 |
| 問合せ先 | 早稲田大学 理工センター 総務課 TEL：03-5286-3000 |